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电子厂净化车间方案

    电子厂净化车间方案

    电子清洁净化现场清洁空调设计方案参考。

    净化方案1:

    组合式空气处理单元+冷水单元+高效送风口。

    这是较传统的净化空调系统设计方案。组合式空气处理单元包括混合段、初效过滤段、表冷段、二次回风段(或中间段)加热段、加湿段、中效过滤段、风扇段等各种功能段。其冷源由冷水机组提供。

    方案的特点:

    a.建议新风集中处理后与回风混合,减少表冷段的冷处理负担

    b.该方案一般适用于清洁度高的百级、千级或万级、十万级等低清洁现场。

    净化方案2:

    水冷盘+增压盘+高效送风口。

    与以前的方案相比,这是一个相对简单的空调方案。它可以大大缩小机房的面积,水冷柜可以根据具体情况配置在小机房内或净化现场,增压风柜也可以配置在机房内或悬挂在机房内或夹层内。

    方案的特点:

    a.建议新风集中处理后与回风混合,减少表冷段的冷处理负担

    b.该方案一般适用于清洁度高的百级、千级或万级、十万级等低清洁现场。

    净化方案3:

    分体空调机柜+FFU送风口。

    这是较简单的空调方案。将分体空调机柜直接配置在现场,用彩钢包围,在机柜的回风口打开彩钢板的回风口(带初效过滤器)的白伦风扇过滤单元FFU均匀配置在天花板上。该方案适用于室内温湿度精度要求低的清洁工厂。

    方案的特点:

    a、清洁现场的清洁度:LCD屏幕的简单流程是清洗→印刷方向膜→摩擦→密封印刷层分布垫片→组合→刻划和切割→LC注入→贴偏振片→屏幕检查。

    b、温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%。c、新风量大d、送风量大。

    电子清洁净化现场的设计要求。

    光学微电子净化工程又称洁净室或洁净室,目前是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、基板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近年来,由于技术创新的发展,对产品高精度化、细小型化的需求更加迫切,如超大型积体电路的研究制造,已成为世界各国非常重视科学技术发展的项目,本公司的设计理念和施工技术在业界前端。

    光学微电子净化工程一般包括:

    1.清洁生产区域。

    2.清洁辅助室(包括人员净化用房、材料净化用房和部分生活用房等)

    3、管理区(包括办公室、值班、管理和休息等)